應(yīng)用
QuickChange? NX 過(guò)濾器應(yīng)用
- 行業(yè)：半導(dǎo)體、平板顯示器、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、LED
- 工藝：濕法蝕刻和清洗、磁頭 - 濕法蝕刻和清洗、批量化學(xué)品輸送
- 化學(xué)：強(qiáng)酸、強(qiáng)堿、溶劑
- 安裝點(diǎn)：工具點(diǎn)、分配點(diǎn)、散裝
產(chǎn)品規(guī)格
| 材料： |
膜 |
預(yù)濕、不脫濕 PTFE??? |
? |
? |
| ? |
支持 |
肺動(dòng)脈高壓 |
? |
? |
? |
? |
? |
| ? |
對(duì)于濾芯 |
? |
? |
? |
? |
? |
| ? |
墨盒連接 |
代碼 0 (AS568-222) O 型圈??? |
? |
? |
| ? |
墨盒 O 形圈 |
E-FKM、E-ETP、Chemraz??或 Kalrez?????? |
? |
| ? |
鑰匙（僅限帶有 Chemlock??鑰匙的鑰匙盒） |
肺動(dòng)脈高壓 |
? |
? |
? |
? |
? |
| ? |
對(duì)于一次性過(guò)濾器 |
? |
? |
? |
? |
? |
| ? |
殼 |
肺動(dòng)脈高壓 |
? |
? |
? |
? |
? |
| 保留評(píng)級(jí)： |
15 納米（NXT、NXE、NXF、NXG）
30 納米、0.05 μm、0.1 μm、0.2 μm（NXT、NXX、NXM、NXE） |
? |
? |
? |
| 膜面積： |
? |
NXT? |
尼克?????? |
NXM???????? |
恩西埃???????? |
NXM |
恩智浦半導(dǎo)體 |
| ? |
30納米、0.05微米、0.1微米、0.2微米 |
? |
? |
? |
? |
? |
| ? |
4” |
– |
0.5 平方米（
5.4平方英尺） |
– |
– |
– |
– |
| ? |
10 英寸 |
0.9 平方米（
9.7平方英尺） |
1.3平方米（
14平方英尺） |
1.8 平方米（
19.4平方英尺） |
2.2 平方米（
23.7平方英尺） |
– |
– |
| ? |
20 英寸 |
1.8 平方米（
19.4平方英尺） |
2.6 平方米（
28平方英尺） |
3.6 平方米（
38.8平方英尺） |
4.4 平方米（
47.4平方英尺） |
– |
– |
| ? |
30 英寸 |
2.7 平方米（
29平方英尺） |
– |
– |
– |
– |
– |
| ? |
15納米 |
? |
? |
? |
? |
? |
? |
| ? |
10 英寸 |
0.9 平方米（
9.7平方英尺） |
_ |
_ |
2平方米
（21.5 平方英尺） |
2.4 平方米（
25.8 平方英尺） |
3 平方米（?32.3平方英尺） |
| ? |
20 英寸 |
1.8 平方米（
19.4平方英尺） |
– |
– |
4 平方米（
43.1平方英尺） |
4.8 平方米（
51.7平方英尺） |
6 平方米（?64.6平方英尺） |
| 最高工作條件： |
最大工作壓力 |
0.58 MPa (5.8 bar, 84 psi) @ 25°C (77°F)
0.097 MPa (0.97 bar, 14 psi) @ 200°C (392°F) |
| ? |
最大正向壓差 |
0.44 MPa (4.4 bar, 64 psi) @ 25°C (77°F)
0.05 MPa (0.52 bar, 7.5 psi) @ 200°C (392°F) |
| ? |
最大反向壓力 |
0.34 兆帕（3.45 巴，50 磅/平方英寸）@ 25°C (77°F) |
| ? |
最高工作溫度 |
200°C（392°F） |
| 金屬可萃取物： |
標(biāo)準(zhǔn)和 UCM-16：針對(duì) 23 種金屬進(jìn)行測(cè)試 |
? |
? |
? |
| 其他可萃取物： |
標(biāo)準(zhǔn)和 UCM-16：TOC、Cl、F |
? |
? |
? |
? |
? |